等離子體增強化學氣相沉積系統（PECVD）
等離子體增強化學氣相沉積系統（PECVD），三溫區(qū)CVD系統，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統、機械泵、真空密封及測量系統、尾氣處理系統組成，極...
化學氣相沉積系統
多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統是由我團隊成員自主研發(fā)，具有自主知識產權的產品。本系統具有低溫無催化生長石墨烯，也可對石墨烯進行缺陷檢測與修復及各向異性刻蝕等功能，也可用于生長其他二維材料。研究成果發(fā)表于各類頂級期刊。
等離子體修飾系統
等離子體修飾系統，利用三溫區(qū)管式爐，通過氧氣輔助化學氣相沉積技術，在藍寶石襯底上外延生長了大尺寸、高質量的單層二硫化鉬薄膜。在生長過程中引入氧氣，不僅能夠有效的阻止三氧化鉬源中...