等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術基礎
今天卓聚科技小編來給大家介紹一下等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備的技術基礎。
1、等離子體增強化學氣相沉積的主要過程
等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電等離子體使含有薄膜組成的氣態(tài)物質發(fā)生化學反應,從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。由于PECVD技術是通過應氣體放電來制備薄膜...
什么是等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)?
等離子體增強化學氣相沉積(plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)
等離子體增強化學氣相沉積-制取方法
在沉積室利用輝光放電使其電離后在襯底上進行化學反應沉積的半導體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法。等離子體增強化學氣相沉積是:在化學氣相沉積中,激發(fā)氣體,使其產生低溫等離子體,增強反應物...
什么是納米位移臺?納米位移臺的工作原理是什么?
卓聚科技小編為您介紹一下什么是納米位移臺以及納米位移臺的工作原理是什么。
納米位移臺由壓電陶瓷驅動器、柔性鉸鏈機械系統(tǒng)、傳感器、控制器、軟件及標定系統(tǒng)組成,是儀器和設備領域的共性關鍵器件。廣泛應用于半導體設備、顯微成像、納米技術、激光與光學、航天航空、生物醫(yī)學、航天航空、國防軍工等領域。
納米位移...